Hochschulschrift
Die Grundlagen der TSEE und ihre Anwendung zum Nachweis der Korrelation zwischen der Defektstruktur und dem qualitativen Verlauf der Haftstellenverteilung am Beispiel amorpher SiO2-Schichten [SiO-Schichten]
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
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30 cm
- Extent
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111 Bl.
- Language
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Deutsch
- Notes
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58 graph. Darst.
Rostock, Univ., Fak. für Mathematik, Physik u. Techn. Wiss., Diss. A, 1974 (Nicht f.d. Austausch.)
- Creator
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Schmidt, Manfred
- Table of contents
- Rights
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- Last update
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11.06.2025, 1:51 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Schmidt, Manfred