Hochschulschrift
Eigenschaften ionenstrahlgesputteter optischer SiO2- und TiO2-Schichten bei unterschiedlichen Wachstumsbedingungen und Veränderungen bei thermischer Nachbehandlung
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783896752673
3896752677
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
127 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Darmstadt, Techn. Univ., Diss., 1997
- Schlagwort
-
Siliciumdioxid
Sputtern
Optische Schicht
Schichtwachstum
Absorption
Sauerstoff
Siliciumdioxid
Sputtern
Optische Schicht
Schichtwachstum
Tempern
Optische Eigenschaft
Titandioxid
Sputtern
Optische Schicht
Schichtwachstum
Absorption
Sauerstoff
Titandioxid
Sputtern
Optische Schicht
Schichtwachstum
Tempern
Optische Eigenschaft
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.03.2025, 12:08 MEZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Tilsch, Markus
- Utz, Wiss.
Entstanden
- 1997
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