Hochschulschrift

Herstellung dünner epitaxialer Isolatorschichten auf einkristallinen Silicium-Substraten mittels Molekularstrahlepitaxie und deren Charakterisierung

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
31 cm
Umfang
[3], 116 Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Dresden, Techn. Univ., Diss., 1992

Urheber
Sellam, Farid

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:20 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Sellam, Farid

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