Impact of BTI Stress on RF Small Signal Parameters of FDSOI MOSFETs

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
In: IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW). South Lake Tahoe, 13.-17.10. 2019

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden
(wer)
Technische Universität Dresden
(wann)
2022
Urheber
Chohan, Talha
Slesazeck, Stefan
Trommer, Jens
Krause, Gernot
Bossu, Germain
Lehmann, Steffen
Mikolajick, Thomas

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-797051
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:41 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Chohan, Talha
  • Slesazeck, Stefan
  • Trommer, Jens
  • Krause, Gernot
  • Bossu, Germain
  • Lehmann, Steffen
  • Mikolajick, Thomas
  • Technische Universität Dresden

Entstanden

  • 2022

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