Hochschulschrift | Online-Publikation
Excimer-Laser-unterstützte Prozesse für die Siliziumtechnologie
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2002
- Klassifikation
-
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Schlagwort
-
Silicium
Halbleitertechnologie
Excimerlaser
Silicium ; Halbleitertechnologie ; Excimer Laser ; Trockenätzen ; Dotierung ; Oxidation
- Urheber
-
Wang, Yan
- URN
-
urn:nbn:de:bvb:706-419
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:49 MEZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
- Online-Publikation
Beteiligte
- Wang, Yan
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