Hochschulschrift | Online-Publikation
Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis mittels thermischer Plasmen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Chemnitz, Univ., Diss., 2002
- Klassifikation
-
Industrielle und handwerkliche Fertigung
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Schlagwort
-
Siliciumcarbid
PECVD-Verfahren
Prozessführung
Siliciumnitrid
PECVD-Verfahren
Prozessführung
Emissionsspektroskopie
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:ch1-200200730urn:nbn:de:swb:ch1-200200738
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:47 MEZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
- Online-Publikation
Beteiligte
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