Hochschulschrift
Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis mittels thermischer Plasmen
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
151 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2002
- Bibliographic citation
-
Schriftenreihe Werkstoffe und werkstofftechnische Anwendungen ; Bd. 10
- Keyword
-
Siliciumcarbid
PECVD-Verfahren
Prozessführung
Siliciumnitrid
PECVD-Verfahren
Prozessführung
Emissionsspektroskopie
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Chemnitz
- (who)
-
TU, Lehrstuhl für Verbundwerkstoffe
- (when)
-
2002
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.06.2025, 1:46 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Wank, Andreas
- TU, Lehrstuhl für Verbundwerkstoffe
Time of origin
- 2002
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