Hochschulschrift

Thermische Nachbehandlung von aluminiumdotiertem Zinkoxid und die Silizium/Zinkoxid-Grenzfläche

Weitere Titel
Thermal post-deposition treatment of aluminum-doped zinc oxide and the silicon/zinc oxide interface
Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Berlin, Technische Universtität Berlin, Diss., 2012

Klassifikation
Physik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Berlin
(wer)
Universitätsbibliothek der Technischen Universität Berlin
(wann)
2012
Urheber
Wimmer, Mark
Beteiligte Personen und Organisationen

URN
urn:nbn:de:kobv:83-opus-35828
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:42 MEZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Wimmer, Mark
  • Rech, Bernd
  • Universitätsbibliothek der Technischen Universität Berlin

Entstanden

  • 2012

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