Intercalation of Si between MoS2 layers

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
Intercalation of Si between MoS2 layers ; volume:8 ; pages:1952-1960
Beilstein journal of nanotechnology ; 8, 1952-1960

Classification
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

DOI
10.3762/bjnano.8.196
URN
urn:nbn:de:101:1-2018090711225491376482
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:20 AM CEST

Data provider

This object is provided by:
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.

Other Objects (12)