Growth and Characterization of Thin MoS2 Layers by CVD

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
In: DPG Frühjahrstagung. Berlin, 18. März 2015

Schlagwort
CVD-Verfahren
Dünne Schicht
Molybdändisulfid
Siliciumcarbid
Interkalation

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Chemnitz
(wer)
Technische Universität Chemnitz
(wann)
2024
Urheber
Nordheim, Gregor

URN
urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa2-921264
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:54 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Nordheim, Gregor
  • Technische Universität Chemnitz

Entstanden

  • 2024

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