Hochschulschrift

High-rate growth of hydrogenated amorphous and microcrystalline silicon for thin-film silicon solar cells using dynamic very-high frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Dresden, Technische Universität Dresden, Diss., 2013

Klassifikation
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden, Dresden
(wer)
Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden, Technische Universität Dresden
(wann)
2014
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen
Bartha, Johann Wolfgang
Rau, Uwe

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa-131765
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:47 MEZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Zimmermann, Thomas
  • Bartha, Johann Wolfgang
  • Rau, Uwe
  • Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden, Technische Universität Dresden

Entstanden

  • 2014

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