Hochschulschrift
Nasschemische Abscheidung und Charakterisierung von TiO2-Schichten für den Sensoreinsatz beim Gasnitrieren
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783832209643
3832209646
- Dimensions
-
21 cm, 279 gr.
- Extent
-
VII, 171 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Bremen, Univ., Diss., 2002
- Keyword
-
Titandioxid
Sol-Gel-Verfahren
Halbleitersensor
Metalloxid-Gassensor
Nitrierhärten
Prozessüberwachung
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Aachen
- (who)
-
Shaker
- (when)
-
2002
- Creator
-
Beling, Sandra
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
- 11.06.2025, 2:29 PM CEST
Data provider
This object is provided by:
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Beling, Sandra
- Shaker
Time of origin
- 2002
Other Objects (12)
Strukturelle und elektrischen Charakterisierung von nanokristallinen Anatas-TiO2-Schichten
Herstellung und Charakterisierung von Cr-Schichten auf TiO2(110)-Oberflächen
Herstellung und Charakterisierung von Cr-Schichten auf TiO2(110)-Oberflächen
Flammgespritzte Schichten im System Al2O3-TiO2-ZrO2
Untersuchung der photokatalytischen Wirkung von TiO2/SiO2-Schichten
Abscheidung Phosphor-dotierter SiO2-Schichten zur Passivierung von optoelektronisch-integrierten Empfängern
Entwurf und Charakterisierung einer Anlage zur Abscheidung atomar selbstregelnder Schichten
Abscheidung funktioneller Schichten mittels Plasmatronzerstäubung
Abscheidung, Charakterisierung und Korrosionsuntersuchungen von galvanischen Zinn-Zink-Schichten aus Pyrophosphatbädern
Plasmadiagnostische und oberflächenanalytische Untersuchungen zum Mechanismus der Abscheidung reaktiv gesputterter TiNx-Schichten
Untersuchungen zur Kinetik der Abscheidung von TiN-Schichten mit reaktiven PVD-Verfahren
Untersuchungen zur Elektroninjektion und Rekombination an farbstoffsensibilisierten TiO2-Schichten
Strukturelle und elektrischen Charakterisierung von nanokristallinen Anatas-TiO2-Schichten
Herstellung und Charakterisierung von Cr-Schichten auf TiO2(110)-Oberflächen
Herstellung und Charakterisierung von Cr-Schichten auf TiO2(110)-Oberflächen
Flammgespritzte Schichten im System Al2O3-TiO2-ZrO2
Untersuchung der photokatalytischen Wirkung von TiO2/SiO2-Schichten
Abscheidung Phosphor-dotierter SiO2-Schichten zur Passivierung von optoelektronisch-integrierten Empfängern
Entwurf und Charakterisierung einer Anlage zur Abscheidung atomar selbstregelnder Schichten
Abscheidung funktioneller Schichten mittels Plasmatronzerstäubung
Abscheidung, Charakterisierung und Korrosionsuntersuchungen von galvanischen Zinn-Zink-Schichten aus Pyrophosphatbädern
Plasmadiagnostische und oberflächenanalytische Untersuchungen zum Mechanismus der Abscheidung reaktiv gesputterter TiNx-Schichten
Untersuchungen zur Kinetik der Abscheidung von TiN-Schichten mit reaktiven PVD-Verfahren
Untersuchungen zur Elektroninjektion und Rekombination an farbstoffsensibilisierten TiO2-Schichten
Strukturelle und elektrischen Charakterisierung von nanokristallinen Anatas-TiO2-Schichten
Herstellung und Charakterisierung von Cr-Schichten auf TiO2(110)-Oberflächen
Herstellung und Charakterisierung von Cr-Schichten auf TiO2(110)-Oberflächen
Flammgespritzte Schichten im System Al2O3-TiO2-ZrO2
Untersuchung der photokatalytischen Wirkung von TiO2/SiO2-Schichten
Abscheidung Phosphor-dotierter SiO2-Schichten zur Passivierung von optoelektronisch-integrierten Empfängern
Entwurf und Charakterisierung einer Anlage zur Abscheidung atomar selbstregelnder Schichten
Abscheidung funktioneller Schichten mittels Plasmatronzerstäubung
Abscheidung, Charakterisierung und Korrosionsuntersuchungen von galvanischen Zinn-Zink-Schichten aus Pyrophosphatbädern
Plasmadiagnostische und oberflächenanalytische Untersuchungen zum Mechanismus der Abscheidung reaktiv gesputterter TiNx-Schichten
Untersuchungen zur Kinetik der Abscheidung von TiN-Schichten mit reaktiven PVD-Verfahren