Low pressure plasmas and microstructuring technology

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783540858485
Maße
24 cm
Umfang
XXIV, 732 S.
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Literturverz. S. 669 - 703

Schlagwort
Niederdruckplasma
Hochfrequenzentladung
Ionenstrahlbearbeitung
Plasmadiagnostik
PECVD-Verfahren
Sputtern
Plasmaätzen

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Berlin, Heidelberg
(wer)
Springer
(wann)
2009
Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:13 MESZ

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Beteiligte

Entstanden

  • 2009

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