Advances in UV-lithographic patterning of multi-layer waveguide stack for single mode polymeric RDL
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
In: 2022 IEEE 9th Electronics System-Integration Technology Conference (ESTC). New York, 2022. S. 405-409
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Dresden
- (wer)
-
Technische Universität Dresden
- (wann)
-
2023
- Urheber
-
Weyers, David
Nieweglowski, Krzysztof
Bock, Karlheinz
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-880235
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:49 MEZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Weyers, David
- Nieweglowski, Krzysztof
- Bock, Karlheinz
- Technische Universität Dresden
Entstanden
- 2023
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