Advances in UV-lithographic patterning of multi-layer waveguide stack for single mode polymeric RDL
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Englisch
- Notes
-
In: 2022 IEEE 9th Electronics System-Integration Technology Conference (ESTC). New York, 2022. S. 405-409
- Classification
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Dresden
- (who)
-
Technische Universität Dresden
- (when)
-
2023
- Creator
-
Weyers, David
Nieweglowski, Krzysztof
Bock, Karlheinz
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-880235
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
14.08.2025, 10:59 AM CEST
Data provider
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Associated
- Weyers, David
- Nieweglowski, Krzysztof
- Bock, Karlheinz
- Technische Universität Dresden
Time of origin
- 2023
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