Temperature-Dependent HfO2/Si Interface Structural Evolution and its Mechanism
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
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1556-276X
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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online resource.
- Erschienen in
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Temperature-Dependent HfO2/Si Interface Structural Evolution and its Mechanism ; volume:14 ; number:1 ; day:7 ; month:3 ; year:2019 ; pages:1-8 ; date:12.2019
Nanoscale research letters ; 14, Heft 1 (7.3.2019), 1-8, 12.2019
- Urheber
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Zhang, Xiao-Ying
Hsu, Chia-Hsun
Lien, Shui-Yang
Wu, Wan-Yu
Ou, Sin-Liang
Chen, Song-Yan
Huang, Wei
Zhu, Wen-Zhang
Xiong, Fei-Bing
Zhang, Sam
- Beteiligte Personen und Organisationen
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SpringerLink (Online service)
- DOI
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10.1186/s11671-019-2915-0
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2019033116580159761441
- Rechteinformation
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:47 MESZ
Datenpartner
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Beteiligte
- Zhang, Xiao-Ying
- Hsu, Chia-Hsun
- Lien, Shui-Yang
- Wu, Wan-Yu
- Ou, Sin-Liang
- Chen, Song-Yan
- Huang, Wei
- Zhu, Wen-Zhang
- Xiong, Fei-Bing
- Zhang, Sam
- SpringerLink (Online service)