Über die Abtrennung von Bor(III)chlorid-Spuren aus Silizium(IV)chlorid durch Oberflächenreaktion

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
gr. 8
Umfang
53 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
mit 15 Abb.

Erschienen in
Publikation der Abteilung für Industrielle Forschung am Institut für Technische Physik an der Eidgenössischen Technischen Hochschule in Zürich / Eidgenössische Technische Hochschule Zürich ; Nr. 10

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Zürich
(wer)
Eidgenöss. Techn. Hochschule
(wann)
1961
Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:44 MESZ

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Beteiligte

Entstanden

  • 1961

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