Hochschulschrift
Hochtemperaturoxidation von Silicium in trockenem Sauerstoff unter Berücksichtigung mechanischer Spannungen im Oxid
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
123, 4 Bl.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Chemnitz, Zwickau, Techn. Univ., Diss., 1993
- Schlagwort
-
Siliciumdioxid
Schichtwachstum
Eigenspannung
Hochtemperaturkriechen
- Urheber
-
Rautschke, Uwe
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:08 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Rautschke, Uwe
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