Monografie
High-temperature CVD processes for crystalline silicon thin-film and wafer solar cells
- Ausgabe
-
1. Aufl.
- Sprache
-
Englisch
- Umfang
-
VI, 180 S.
- Anmerkungen
-
Zugl.: Konstanz, Univ., Diss., 2008
- ISBN
-
978-3-89963-843-1
- Identifier
-
992162874
Thema
Dünnschichtsolarzelle ; APCVD-Verfahren ; Silicium ; Epitaxieschicht ; Emitter ; Getterung ; APCVD-Verfahren ; Epitaxie ; Dünnschichtsolarzelle ; Silicium ; Kristallin ; Emitter ; Getterung; Hochschulschrift
Beteiligte Personen und Organisationen
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf Teile des Objekts ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
16.08.2023, 18:38 MESZ
Objekttyp
- Monografie
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