Hochschulschrift
Crystalline silicon carbide intermediate layers for silicon thin-film solar cells
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839607886
3839607884
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
136 S.
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Freiburg (Breisgau), Univ., Diss., 2014
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
Dünnschichtsolarzelle
Wafer
Zirkoniumsilicat
Siliciumcarbid
Zwischenschicht
Silicium
CVD-Verfahren
Rekristallisation
Zonenschmelzverfahren
Absorber
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Fraunhofer Verl.
- (wann)
-
2014
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
Fraunhofer ISE, Freiburg/Brsg
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:08 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Schillinger, Kai
- Fraunhofer ISE, Freiburg/Brsg
- Fraunhofer Verl.
Entstanden
- 2014
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