Hochschulschrift | Online-Publikation

Stress and microstructure of sputter deposited thin copper and niobium films

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2003

Erschienen in
Bericht / Max-Planck-Institut für Metallforschung ; Nr. 132

Klassifikation
Physik
Schlagwort
Metallschicht
Sputtern
Mechanische Spannung
Texturanalyse
Röntgenbeugung
Elastische Spannung / Messung ; Mikrostruktur ; Textur ; Röntgenbeugung

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Stuttgart
(wer)
Max-Planck-Inst. für Metallforschung
(wann)
2003
Urheber

URN
urn:nbn:de:bsz:93-opus-14135
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
16.05.1970, 00:47 MEZ

Datenpartner

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Objekttyp

  • Hochschulschrift
  • Online-Publikation

Beteiligte

Entstanden

  • 2003

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