Hochschulschrift
Characterization and chemical recovery of plasma damaged porous low-k SiOCH dielectric for the semiconductor industry
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839603697
3839603692
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
161 S.
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2011
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
Low-k-Dielektrikum
Nanoporöser Stoff
Plasmaätzen
Schädigung
Silylierung
ULSI
Molekulardesign
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Fraunhofer-Verl.
- (wann)
-
2012
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
Fraunhofer CNT
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:41 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Oszinda, Thomas
- Fraunhofer CNT
- Fraunhofer-Verl.
Entstanden
- 2012
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