Hochschulschrift

Neue Konzepte zur Reinigung von Siliciumoberflächen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
[6], 132 Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
graph. Darst.
München, Techn. Univ., Diss., 2002

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
Silicium
Wafer
Oberflächenreinigung
Wasserstoffperoxid
Komplexbildner
Einstufenprozess

Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:34 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

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