Hochschulschrift
Ionenbeschussinduzierte Effekte bei der Sputtertiefenprofilierung von Ta/Si-Vielschichtsystemen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783861113805
3861113805
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
134 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Kaiserslautern, Univ., Diss., 1992
- Schlagwort
-
Tantal
Silicium
Mehrschichtsystem
Sputtern
Tiefenprofilmessung
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Aachen
- (wer)
-
Shaker
- (wann)
-
1993
- Urheber
-
Bachmann, Gerd
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:57 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Bachmann, Gerd
- Shaker
Entstanden
- 1993
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