Deep learning approach to predict optical attenuation in additively manufactured planar waveguides

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Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Pflieger, K.; Evertz, A.; Overmeyer, L.: Deep learning approach to predict optical attenuation in additively manufactured planar waveguides. In: Applied Optics 63 (2024), Nr. 1, S. 66-76. DOI: https://doi.org/10.1364/ao.501079

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Hannover
(wer)
Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
(wann)
2024
Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Hannover
(wer)
Technische Informationsbibliothek (TIB)
(wann)
2024
Urheber
Pflieger, Keno
Evertz, Andreas
Overmeyer, Ludger

DOI
10.15488/16588
URN
urn:nbn:de:101:1-2024032801153812601676
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:45 MESZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte

  • Pflieger, Keno
  • Evertz, Andreas
  • Overmeyer, Ludger
  • Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
  • Technische Informationsbibliothek (TIB)

Entstanden

  • 2024

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