Hochschulschrift
31Si- [Si-] und 71Ge-Diffusion [Ge-Diffusion] in eigenleitendem und dotiertem Silizium : eine Studie zum Mechanismus der Selbstdiffusion in Silizium
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
80 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
zahlr. Ill.
Stuttgart, Univ., Fachbereich Physik, Diss., 1979.
- Urheber
-
Hettich, Gerhard
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:19 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Hettich, Gerhard
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