Hochschulschrift

Anwendung der Remote-PECVD-Technologie zur gezielten Verringerung von Defekten in Oxiden auf Siliziumkarbid

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783826527944
3826527941
Maße
21 cm
Umfang
147 S.
Ausgabe
Als Ms. gedr.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1997

Schlagwort
Siliciumcarbid
Thermische Oxidation
PECVD-Verfahren

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Aachen
(wer)
Shaker
(wann)
1997
Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:27 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 1997

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