Entwicklung eines Back-End-Prozesses für eine vollständig CMOS-kompatible Integration nanoskaliger Drucksensoren

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Deutsch
Notes
Dortmund, Technische Universität, Dissertation, 2018

Classification
Industrielle und handwerkliche Fertigung
Keyword
CMOS
Drucksensor
Transistor
Drain
Integration
Silicium
CMOS
Halbleiter
Drucksensor

Event
Veröffentlichung
(where)
Dortmund
(who)
Universitätsbibliothek Dortmund
(when)
2018
Creator
Contributor
Fiedler, Horst L.
Horstmann, John Thomas

Handle
2003/37141
URN
urn:nbn:de:101:1-2018101203424902903246
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:20 AM CEST

Data provider

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Time of origin

  • 2018

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