Strukturerzeugung auf Halbleitern mit Röntgenstrahlen : Vergl. u. Optimierung d. Maskentechnologie
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
196 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Literaturverz. S. 194 - 196. - Als Ms. gedr.
- Schlagwort
-
Maskentechnik
Röntgenlithographie
Röntgenlack
Maskentechnik
Röntgenlithografie
Röntgenlaser
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Eggenstein-Leopoldshafen
- (wer)
-
Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe
- (wann)
-
1983
- Urheber
-
Betz, Hans
- Beteiligte Personen und Organisationen
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:35 MESZ
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Beteiligte
- Betz, Hans
- Fraunhofer-Institut für Festkörpertechnologie. München
- Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe
Entstanden
- 1983
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