Optimizing the plasma oxidation of aluminum gate electrodes for ultrathin gate oxides in organic transistors
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
In: Scientific reports 11 (2021), No. 6382
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Universitätsbibliothek der Universität Stuttgart
- (wann)
-
2021
- Urheber
-
Geiger, Michael
Hagel, Marion
Reindl, Thomas
Weis, Jürgen
Weitz, R. Thomas
Solodenko, Helena
Schmitz, Guido
Zschieschang, Ute
Klauk, Hagen
Acharya, Rachana
- DOI
-
10.18419/opus-13057
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:93-opus-ds-130763
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:53 MEZ
Datenpartner
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Beteiligte
- Geiger, Michael
- Hagel, Marion
- Reindl, Thomas
- Weis, Jürgen
- Weitz, R. Thomas
- Solodenko, Helena
- Schmitz, Guido
- Zschieschang, Ute
- Klauk, Hagen
- Acharya, Rachana
- Universitätsbibliothek der Universität Stuttgart
Entstanden
- 2021
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