Hochschulschrift
Diffusion von Strontium, Wismut und Tantal in Siliziumdioxid
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Halle (Saale), Univ., Diss., 2003
- Klassifikation
-
Physik
- Schlagwort
-
Siliciumdioxid
Dünne Schicht
Diffusion
Strontium
Tantal
Bismut
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:gbv:3-000004787
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:43 MEZ
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Objekttyp
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