Plasma charging damage

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Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
1852331445
Maße
24 cm
Umfang
XII, 346 S.
Sprache
Englisch
Anmerkungen
graph. Darst.
Literaturangaben

Schlagwort
VLSI
Plasmastrahlbearbeitung
Elektrische Ladung
Gate-Oxid
Werkstoffschädigung

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
London, Berlin, Heidelberg, New York, Barcelona, Hong Kong, Milan, Paris, Singapore, Tokyo
(wer)
Springer
(wann)
2001
Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:11 MESZ

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Beteiligte

Entstanden

  • 2001

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