Chemical vapor deposition of cobalt and nickel ferrite thin films : Investigation of structure and pseudocapacitive properties

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: Advanced materials interfaces, 8, 20, Artikel 2100949, S. 2100949-1-2100949-13

Event
Veröffentlichung
(where)
Bochum
(who)
Ruhr-Universität Bochum
(when)
2021
Creator
Zywitzki, Dennis
Schaper, Raoul
Ciftyürek, Engin
Wree, Jan-Lucas
Taffa, Dereje H.
Baier, Daniel M.
Rogalla, Detlef
Li, Yujiao
Meischein, Michael
Ludwig, Alfred
Li, Zheshen
Schierbaum, Klaus
Wark, Michael
Devi, Anjana

URN
urn:nbn:de:hbz:294-122963
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:32 AM CEST

Data provider

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  • Zywitzki, Dennis
  • Schaper, Raoul
  • Ciftyürek, Engin
  • Wree, Jan-Lucas
  • Taffa, Dereje H.
  • Baier, Daniel M.
  • Rogalla, Detlef
  • Li, Yujiao
  • Meischein, Michael
  • Ludwig, Alfred
  • Li, Zheshen
  • Schierbaum, Klaus
  • Wark, Michael
  • Devi, Anjana
  • Ruhr-Universität Bochum

Time of origin

  • 2021

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