Chemical vapor deposition of cobalt and nickel ferrite thin films : Investigation of structure and pseudocapacitive properties
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Englisch
- Bibliographic citation
-
In: Advanced materials interfaces, 8, 20, Artikel 2100949, S. 2100949-1-2100949-13
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Bochum
- (who)
-
Ruhr-Universität Bochum
- (when)
-
2021
- Creator
-
Zywitzki, Dennis
Schaper, Raoul
Ciftyürek, Engin
Wree, Jan-Lucas
Taffa, Dereje H.
Baier, Daniel M.
Rogalla, Detlef
Li, Yujiao
Meischein, Michael
Ludwig, Alfred
Li, Zheshen
Schierbaum, Klaus
Wark, Michael
Devi, Anjana
- URN
-
urn:nbn:de:hbz:294-122963
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
15.08.2025, 7:32 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Zywitzki, Dennis
- Schaper, Raoul
- Ciftyürek, Engin
- Wree, Jan-Lucas
- Taffa, Dereje H.
- Baier, Daniel M.
- Rogalla, Detlef
- Li, Yujiao
- Meischein, Michael
- Ludwig, Alfred
- Li, Zheshen
- Schierbaum, Klaus
- Wark, Michael
- Devi, Anjana
- Ruhr-Universität Bochum
Time of origin
- 2021