X-ray diffuse scattering from self-organized mesoscopic semiconductor structures

This monograph represents a critical survey about the outstanding capabilities of X-ray diffuse scattering for the structural characterization of mesoscopic materials systems. The mesoscopic regime comprises length scales ranging from a few up to some hundreds of nanometers and is of particular relevance at semiconductor layer systems where e.g. interface roughness or low- dimensional objects such as quantum dots and quantum wires have attracted much interest. An extensive overview of the present state-of-the-art theory of X-ray diffuse scattering at mesocopic structures is given followed by a valuable description of various experimental techniques. Selected up-to-date examples are discussed. The aim of the present book is to combine both aspects of self-organized growth of mesoscopic structures and respective X-ray diffuse scattering experiments. TOC:A Brief Introduction to the Topic.- BasicPrinciples of X-Ray Diffuse Scattering on Mesoscopic Structures.- Experimental Optimization.- A Model System: LPE SiGe/Si(001) Islands.- Dynamical Scattering at Grazing Incidence.- Characterization of Quantum Dots.- Characterization of Interface Roughness.- Appendix.

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783540201793
3540201793
Maße
24 cm
Umfang
X, 202 S.
Sprache
Englisch
Anmerkungen
graph. Darst.
Literaturangaben

Erschienen in
Springer tracts in modern physics ; Vol. 199

Klassifikation
Physik
Schlagwort
Halbleiter
Mesoskopisches System
Schichtwachstum
Selbstorganisation
Röntgenstreuung
Diffuse Streuung

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Berlin, Heidelberg, New York, Hong Kong, London, Milan, Paris, Tokyo
(wer)
Springer
(wann)
2004
Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:14 MESZ

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Beteiligte

Entstanden

  • 2004

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