Hochschulschrift
Prozessinduzierte mechanische Spannungen in TiSi2-Schichten während der Temperung in einem RTP-System
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783183353033
3183353032
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
IX, 107 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Hannover, Univ., Diss., 1993
- Erschienen in
-
Fortschrittberichte VDI / 3 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 353, Reihe 3
- Schlagwort
-
Halbleitertechnologie
Titansilicide
Dünne Schicht
Tempern
Mechanische Spannung
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Düsseldorf
- (wer)
-
VDI-Verl.
- (wann)
-
1994
- Urheber
-
Taddiken, Hans
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:24 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Taddiken, Hans
- VDI-Verl.
Entstanden
- 1994
Ähnliche Objekte (12)
Strukturen, physikalische und mechanische Eigenschaften der hochschmelzenden Ti5Si3-, TiSi2- und ZrSi2-Phasen
Mechanische Spannungen in dünnen dielektrischen Schichten
Oxidationsverhalten der Disilizide TiSi2 und MoSi2 als Struktur- und Beschichtungswerkstoffe bei hohen Temperaturen
Beitrag zum elektrischen Leitungsverhalten polykristalliner CrSi2-Schichten [CrSi-Schichten]
Entwicklung und Relaxation mechanischer Spannungen in Bornitrid-Schichten
Entwicklung und Relaxation mechanischer Spannungen in Bornitrid-Schichten
Mechanische Spannungen in dünnen Ni-Si-Schichten, Temperverhalten
Mechanische Spannungen und Spannungsrelaxation in dünnen polykristallinen Nickel-Schichten
Flüssigphasenepitaxie von NiSi2-Schichten [NiSi-Schichten] auf Siliziumsubstrat durch ns-Laserbestrahlung
Untersuchungen zum Wachstum dünner NiSi2-1tnx_Al_1tnx- und NiSi2-1tnxGax-Schichten auf Si(001)
Mechanische Spannungen von BaTiO3 und SrTiO3 Atomlagen auf Metalleinkristallen
Spezifische Oberflächenenergien fester Elektroden und mechanische Spannungen in dünnen Schichten
Strukturen, physikalische und mechanische Eigenschaften der hochschmelzenden Ti5Si3-, TiSi2- und ZrSi2-Phasen
Mechanische Spannungen in dünnen dielektrischen Schichten
Oxidationsverhalten der Disilizide TiSi2 und MoSi2 als Struktur- und Beschichtungswerkstoffe bei hohen Temperaturen
Beitrag zum elektrischen Leitungsverhalten polykristalliner CrSi2-Schichten [CrSi-Schichten]
Entwicklung und Relaxation mechanischer Spannungen in Bornitrid-Schichten
Entwicklung und Relaxation mechanischer Spannungen in Bornitrid-Schichten
Mechanische Spannungen in dünnen Ni-Si-Schichten, Temperverhalten
Mechanische Spannungen und Spannungsrelaxation in dünnen polykristallinen Nickel-Schichten
Flüssigphasenepitaxie von NiSi2-Schichten [NiSi-Schichten] auf Siliziumsubstrat durch ns-Laserbestrahlung
Untersuchungen zum Wachstum dünner NiSi2-1tnx_Al_1tnx- und NiSi2-1tnxGax-Schichten auf Si(001)
Mechanische Spannungen von BaTiO3 und SrTiO3 Atomlagen auf Metalleinkristallen
Spezifische Oberflächenenergien fester Elektroden und mechanische Spannungen in dünnen Schichten
Strukturen, physikalische und mechanische Eigenschaften der hochschmelzenden Ti5Si3-, TiSi2- und ZrSi2-Phasen
Mechanische Spannungen in dünnen dielektrischen Schichten
Oxidationsverhalten der Disilizide TiSi2 und MoSi2 als Struktur- und Beschichtungswerkstoffe bei hohen Temperaturen
Beitrag zum elektrischen Leitungsverhalten polykristalliner CrSi2-Schichten [CrSi-Schichten]
Entwicklung und Relaxation mechanischer Spannungen in Bornitrid-Schichten
Entwicklung und Relaxation mechanischer Spannungen in Bornitrid-Schichten
Mechanische Spannungen in dünnen Ni-Si-Schichten, Temperverhalten
Mechanische Spannungen und Spannungsrelaxation in dünnen polykristallinen Nickel-Schichten
Flüssigphasenepitaxie von NiSi2-Schichten [NiSi-Schichten] auf Siliziumsubstrat durch ns-Laserbestrahlung
Untersuchungen zum Wachstum dünner NiSi2-1tnx_Al_1tnx- und NiSi2-1tnxGax-Schichten auf Si(001)
Mechanische Spannungen von BaTiO3 und SrTiO3 Atomlagen auf Metalleinkristallen