Hochschulschrift

Randeinflüsse und Energieaufspaltungen an n-leitenden Silizium-Inversionsrandschichten im Magnetfeld

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
71 Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
graph. Darst.
Würzburg, Univ., Diss., 1985 (Nicht f.d. Austausch)

Schlagwort
Halbleiterbauelemente
MOS-Feldeffekttransistor
Halbleiterbauelement

Urheber
Dato, Paul

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:55 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Dato, Paul

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