Hochschulschrift
Einfluß der schnellen thermischen Prozeßführung auf die Struktur dünner Siliciumoxynitridschichten
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
99, XLII S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Rostock, Univ., Diss., 1997
- Keyword
-
Siliciumoxinitride
Amorpher Zustand
Dünne Schicht
Rapid thermal processing
Elektronenspektroskopie
EXAFS
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.03.2025, 11:40 AM CET
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Object type
- Hochschulschrift
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