Hochschulschrift
Einfluß der schnellen thermischen Prozeßführung auf die Struktur dünner Siliciumoxynitridschichten
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
99, XLII S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Rostock, Univ., Diss., 1997
- Schlagwort
-
Siliciumoxinitride
Amorpher Zustand
Dünne Schicht
Rapid thermal processing
Elektronenspektroskopie
EXAFS
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.03.2025, 11:40 MEZ
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Objekttyp
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