Hochschulschrift
Elektronische und strukturelle Eigenschaften von Plasma-Siliziumnitrid zur Oberflächenpassivierung von siebgedruckten, bifazialen Silizium-Solarzellen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Hannover, Univ, Diss., 2002
- Schlagwort
-
Bifacial-Solarzelle
Silicium
Polykristall
Rückseite
Metallisieren
Siebdruck
Bifacial-Solarzelle
Silicium
Polykristall
Passivierung
Siliciumnitride
PECVD-Verfahren
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:gbv:089-3600421711
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:51 MEZ
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Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Objekttyp
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Beteiligte
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