Hochschulschrift

Elektronische und strukturelle Eigenschaften von Plasma-Siliziumnitrid zur Oberflächenpassivierung von siebgedruckten, bifazialen Silizium-Solarzellen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
IX, 219 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Hannover, Univ., Diss., 2002 (Nicht für den Austausch)

Schlagwort
Bifacial-Solarzelle
Silicium
Polykristall
Rückseite
Metallisieren
Siebdruck
Bifacial-Solarzelle
Silicium
Polykristall
Passivierung
Siliciumnitride
PECVD-Verfahren

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:11 MESZ

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Objekttyp

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