Hochschulschrift
Elektronische und strukturelle Eigenschaften von Plasma-Siliziumnitrid zur Oberflächenpassivierung von siebgedruckten, bifazialen Silizium-Solarzellen
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
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21 cm
- Umfang
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IX, 219 S.
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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Ill., graph. Darst.
Hannover, Univ., Diss., 2002 (Nicht für den Austausch)
- Schlagwort
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Bifacial-Solarzelle
Silicium
Polykristall
Rückseite
Metallisieren
Siebdruck
Bifacial-Solarzelle
Silicium
Polykristall
Passivierung
Siliciumnitride
PECVD-Verfahren
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
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- Letzte Aktualisierung
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11.06.2025, 14:11 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift