Monografie

Van-der-Waals-terminierte Silizium-(111)-Oberflächen und Grenzflächen : Präparation, Morphologie und elektronische Eigenschaften

Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Darmstadt, Techn. Univ., Diss., 2004
Identifier
976134551

Thema
Kristallfläche ; Passivierung ; Galliumselenide ; Silicium ; Halbleitersubstrat ; Epitaxie ; Metall ; Verbindungshalbleiter ; Silicium ; Van-der-Waals-Kraft ; Halbleitergrenzfläche ; Heteroübergang ; Zwei-Sechs-Halbleiter ; Galliumselenide ; Heteroepitaxie ; Epitaxie ; Oberfläche ; Grenzfläche ; Metall-Halbleiter-Kontakt ; Photoelektronenspektroskopie ; Rastertunnelmikroskopie; Hochschulschrift; Online-Publikation

Beteiligte Personen und Organisationen

URN
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Letzte Aktualisierung
26.01.2023, 13:53 MEZ

Objekttyp


  • Monografie

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