Hochschulschrift

Röntgendiffraktometrische Untersuchungen zur thermischen Stabilität von Si1-xGex/Si- und Si1-yCy/Si-Heterostrukturen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
101 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Potsdam, Univ., Diss., 1996

Schlagwort
Silicium
Germanium
Heterostruktur
Temperaturbeständigkeit
Röntgendiffraktometrie
Silicium
Kohlenstoff
Heterostruktur
Temperaturbeständigkeit
Röntgendiffraktometrie

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:14 MESZ

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