Hochschulschrift
Untersuchung und Optimierung neuartiger Plasmaverfahren zur Siliciumnitrid-Beschichtung von Silicium-Solarzellen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783826595936
3826595939
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
129 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Hannover, Univ., Diss., 2001
- Schlagwort
-
Dünnschichtsolarzelle
Siliciumnitrid
PECVD-Verfahren
Dünnschichtsolarzelle
Siliciumnitrid
Plasmastrahlbearbeitung
Beschichten
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:32 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Lauinger, Thomas
- Shaker
Entstanden
- 2001
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