A Convenient and Effective Method to Deposit Low-Defect-Density nc-Si:H Thin Film by PECVD

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
1556-276X
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
A Convenient and Effective Method to Deposit Low-Defect-Density nc-Si:H Thin Film by PECVD ; volume:13 ; number:1 ; day:10 ; month:8 ; year:2018 ; pages:1-9 ; date:12.2018
Nanoscale research letters ; 13, Heft 1 (10.8.2018), 1-9, 12.2018

Urheber
Wang, Yuwei
Beteiligte Personen und Organisationen
Liu, Hong
Shen, Wenzhong
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1186/s11671-018-2641-z
URN
urn:nbn:de:101:1-2018101000033974076389
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:28 MESZ

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Beteiligte

  • Wang, Yuwei
  • Liu, Hong
  • Shen, Wenzhong
  • SpringerLink (Online service)

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