Hochschulschrift

Fabrication and application of self-masked silicon nanostructures in deep reactive ion etching processes

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch
Notes
Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2010

Keyword
Industriechemikalie
Silicium
Plasmatechnik

Event
Veröffentlichung
(where)
Ilmenau
(who)
Universitätsbibliothek Ilmenau
(when)
2010
Creator
Contributor
Hoffmann, Martin
Schaaf, Peter
Schnakenberg, Uwe

URN
urn:nbn:de:gbv:ilm1-2010000371
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:44 PM CET

Data provider

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Object type

  • Hochschulschrift

Associated

Time of origin

  • 2010

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