Hochschulschrift
Patterngeneration für Elektronenstrahllithographie mit Kompensationsbelichtung
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
III, 125 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Siegen, Univ., Diss., 1984
- Schlagwort
-
Halbleiterbauelemente
Festkörperschaltkreis
Elektronenstrahl-Lithographie
Layout Planning
Halbleiterbauelement
Integrierte Schaltung
Elektronenstrahl-Beschichtung
Layout
- Urheber
-
Arndt, Norbert
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:07 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Arndt, Norbert
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