Progress in the Sputtering Preparation of Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Ferroelectric Films and Memories
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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Progress in the Sputtering Preparation of Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Ferroelectric Films and Memories ; day:20 ; month:11 ; year:2024 ; extent:14
Advanced materials interfaces ; (20.11.2024) (gesamt 14)
- Creator
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Chen, Kun
Zheng, Dan
Gao, Jie
Wang, Hao
Wang, Baoyuan
- DOI
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10.1002/admi.202400367
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2411211322088.224259112855
- Rights
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
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15.08.2025, 7:27 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Chen, Kun
- Zheng, Dan
- Gao, Jie
- Wang, Hao
- Wang, Baoyuan