Hochschulschrift

Charakterisierung galvanisch abgeschiedener Nickel- und Nickel-Wolfram-Schichten für mikrotechnische Anwendungen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
VII, 175 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2002 (Nicht für den Austausch)

Schlagwort
Nickel
Dünne Schicht
Galvanische Abscheidung
Physikalische Eigenschaft
Nickellegierung
Wolframlegierung
Dünne Schicht
Galvanische Abscheidung
Physikalische Eigenschaft

Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
11.03.2025, 12:33 MEZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.

Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Ähnliche Objekte (12)