Hochschulschrift | Online-Publikation
Charakterisierung galvanisch abgeschiedener Nickel- und Nickel-Wolfram-Schichten für mikrotechnische Anwendungen
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2002
- Schlagwort
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Nickel
Dünne Schicht
Galvanische Abscheidung
Physikalische Eigenschaft
Nickellegierung
Wolframlegierung
Dünne Schicht
Galvanische Abscheidung
Physikalische Eigenschaft
- Urheber
- URN
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urn:nbn:de:hbz:82-opus-3906urn:nbn:de:hbz:82-20021298
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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25.03.2025, 13:41 MEZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
- Online-Publikation