Hochschulschrift | Online-Publikation

Charakterisierung galvanisch abgeschiedener Nickel- und Nickel-Wolfram-Schichten für mikrotechnische Anwendungen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2002

Schlagwort
Nickel
Dünne Schicht
Galvanische Abscheidung
Physikalische Eigenschaft
Nickellegierung
Wolframlegierung
Dünne Schicht
Galvanische Abscheidung
Physikalische Eigenschaft

Urheber

URN
urn:nbn:de:hbz:82-opus-3906
urn:nbn:de:hbz:82-20021298
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:41 MEZ

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Objekttyp

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