Hochschulschrift

Trockenätzverfahren zur Nanostrukturierung von III-V-Halbleitern für die Miniaturisierung von optoelektronischen Bauelementen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
100 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Würzburg, Univ., Diss., 2002

Klassifikation
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Schlagwort
ECR-Ätzen
Elektronenstrahllithografie
Drei-Fünf-Halbleiter
Nanostruktur
Photonischer Kristall
Optoelektronisches Bauelement
ECR-Ätzen
Elektronenstrahllithografie
Drei-Fünf-Halbleiter
DBR-Laser
Laserspiegel

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:21 MESZ

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